H2S與O2在活性炭表面的反應(yīng)實(shí)際上分兩步進(jìn)行，首先是活性炭表面吸附氧，形成活性中心的表面氧化物，然后氣體中的H2S分子與化學(xué)吸附的氧發(fā)生反應(yīng)，生成的硫磺沉積在活性炭發(fā)灰的微孔中。為了加速反應(yīng)的進(jìn)行，提高脫硫效果，實(shí)際O2／H2S之比需大于理論值。 比值以大于3為好。活性炭脫硫劑可能過(guò)浸漬法引入活性金屬如銅，堿金屬劃堿土金屬等，以改性提高其催化活性。DL-1型電爐內(nèi)外兩用脫硫劑（電爐專(zhuān)用）性能簡(jiǎn)介：當(dāng)DL-1型脫硫劑與鋼水經(jīng)過(guò)鋼渣混沖時(shí)［S］轉(zhuǎn)變成熔硫較高，密度較小，穩(wěn)定性較強(qiáng)的硫化物進(jìn)入脫硫劑中，從而使硫大大降低而符。 合鋼種要求。使用方法：當(dāng)鋼樣Mn，如［S］在下，完全扒出氧化渣，按噸鋼加入石灰25kg，瑩石噸鋼加入4kg，加入DL-1型（噸鋼10kg），升溫1600度以上，渣變白保持5分鐘后取樣分析，至此能脫硫70%左右，根據(jù)分析的結(jié)果或是出鋼或是流掉適量爐渣，并加入。

目前所生產(chǎn)的溶劑型水處理藥劑，水分控制在100ppm(0.01%)以?xún)?nèi)。微量水分測(cè)定按GB6283—86之規(guī)定進(jìn)行。即卡爾.費(fèi)休法。也可采用簡(jiǎn)便的濁點(diǎn)法，即按GB4120之規(guī)定進(jìn)行。還可采用氣相色譜法來(lái)。 分析。不揮發(fā)物(殘留物)水處理藥劑中的不揮發(fā)物含量的多少，直接影響清洗的工件的清潔度。由于清洗的工件是在清洗液中浸泡，然后讓其自然干燥，則清洗液中的不揮發(fā)物就可能直接粘附在工件上。若是電子元器件，就會(huì)影響其電性能，特別是PCB板之類(lèi)微電路器件，附在板上的離子數(shù)。 是以每平方厘米多少μg(NaClμgcm計(jì)，要求越低越好，一般出廠(chǎng)時(shí)控制在10ppm以下。這是根據(jù)生產(chǎn)單一溶劑型水處理藥劑的企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。其檢測(cè)方法按GB6324.2—86之規(guī)定進(jìn)行。相似于ISO759—1981的方法。一種簡(jiǎn)易的檢測(cè)方法是，在玻璃鏡片上滴上數(shù)滴。