作為大氣污染的重要來源，工業(yè)廢氣的高校治理尤為重要。由于生產(chǎn)的工藝不同，工業(yè)廢氣產(chǎn)生的污染物種類也不同，不同污染物種類應采用不同的處理工藝。目前，市場上常見的工業(yè)廢氣治理技術主要有：干法脫硫、濕法脫硫、物理/化學吸收法、煙氣脫硝、稀釋法、堿液中和法等等, 由于使用不同的吸收劑可獲得不同的副產(chǎn)物而加以利用，因此濕法脫硫是各國研究多的方法。由于工業(yè)廢氣的成分越來越復雜，單一的廢氣處理技術方法很難達到理想的處理效果。業(yè)內(nèi)人士認為，綜合兩種或兩種以上處理技術，以及占地空間小、處理效率高的設備將受到市場關注。 資料顯示，治理惡臭廢氣的核心技術是靜電等離子廢氣治理技術，輔助技術是酸堿洗滌技術和生物膜過濾技術。靜電等離子技術是靜電技術與等離子技術的完美結(jié)合的復合技術，將靜電技術的吸附和凝聚特性與等離子技術的荷電和裂解特性有機組合，形成了靜電等離子技術的四大技術優(yōu)勢：荷電、裂解、吸附和凝聚，而廢氣的凈化就是這四種特性共同作用完成的。

光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。