OC廢氣處理設備從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

吸附脫附催化燃燒設備有文獻表明，催化燃燒裝置催化焚燒時的“燃氣/空氣比值”范圍一般在4%～11%之間；在必定的焚燒條件之下，燃/空比為6%時，天然氣就能完成較好的催化焚燒作用，焚燒體系就可以得到熱效率，一起又能取得較好的排放作用。 吸附脫附催化燃燒設備 焚燒器溫度調理可以通過文本顯示器的鍵盤輸入，改動變頻器的輸出頻率，調理恰當的風量。當風量增大，焚燒溫度超越設定值，則PLc操控變頻器降低輸出頻率，減少出風量來安穩(wěn)焚燒器的溫度。若變頻器輸出頻率低于設定值(風機出風量頻率，設為5 Hz)，而出風量仍高于設定值時，PLc開端計時，若在必定時刻內，降低到設定值，PLc拋棄計時，持續(xù)變頻調速運轉；若在必定時刻內溫度仍高于設定，PLc將持續(xù)調理，直至到達設定值。由PLc經PID運算后操控變頻器的頻率輸出；如溫度不行，則頻率上升，延時堅持必定時刻。反之亦然。 化燃燒裝置可以說是一種較為常見的通過催化反應（無明火）處理有機污染物的方法，具有適用范圍廣，結構簡單，凈化速率高，節(jié)能、無二次污染等優(yōu)點，催化燃燒廢氣處理，為了避免催化劑床層的堵塞和催化劑中毒，廢氣在進入床層之前需要進行預處理，以除去廢氣中的粉塵、液滴及催化劑的毒物。希望大家在選購時選購一款比較適合自己的廢氣處理設備。